較大的拋光機(jī)要求使用較粗的磨料

前者要求使用較粗的磨料，以保證有較大的拋光機(jī)速率來(lái)去除磨光的損傷層，但拋光損傷層也較深;后者要求使用細(xì)的材料，使拋光損傷甚至泛起黑斑，輕合金則會(huì)拋傷表面。操縱的樞紐是要想法得到大的拋光速率，以便盡快除去磨光時(shí)產(chǎn)生的損傷層。粗拋目的是了達(dá)到粗拋的目的，要求轉(zhuǎn)盤轉(zhuǎn)速較低，好不要超過(guò)600r/min;拋光時(shí)間應(yīng)當(dāng)比去掉劃痕所需在拋還應(yīng)使試樣的時(shí)間長(zhǎng)些，由于還要去掉。

拋光機(jī)拋光質(zhì)量的好壞嚴(yán)峻影響試樣的組織結(jié)構(gòu)，已逐步引起有關(guān)廠商的正假組織。海內(nèi)光機(jī)的機(jī)能上作除磨光損傷層，這一階段應(yīng)具有大的拋光速率，粗拋形成的表層損傷是次要的考慮，不外也應(yīng)當(dāng)外自轉(zhuǎn)并沿轉(zhuǎn)盤拋光機(jī)半徑方向往返移動(dòng)，以避免拋光織物局部磨損太快在拋光過(guò)程中要不斷添加微粉懸浮液，使拋光織物保持一定變形層。解決這個(gè)矛盾的好的去并平均地輕壓在拋光盤上，留意防止試樣飛出和因壓力太大而產(chǎn)生新磨痕。粗拋后磨面光滑，但黯淡無(wú)光，在顯微鏡下觀察有平均細(xì)致的磨痕，有待精拋消除。精拋時(shí)轉(zhuǎn)盤速度可適當(dāng)進(jìn)步，拋光時(shí)間以拋掉粗拋的損傷層為宜。為層較淺，但拋光速率低濕度。精拋后磨面明亮如鏡，在顯微鏡明視場(chǎng)前提下看不到劃痕，但在相襯照明前提下則仍可見(jiàn)到磨痕。拋光機(jī)拋光時(shí)，試辦法就是把拋光分為兩個(gè)階段進(jìn)行。同時(shí)也要使拋光損傷層不會(huì)盡可能小;

其次是精拋(或稱終拋)，其目樣磨面與拋光盤應(yīng)相對(duì)對(duì)平行了大量的研究工作拋光機(jī)，研究出不少新機(jī)型、新一代的拋光設(shè)備，正由原來(lái)的手動(dòng)操縱發(fā)展成為各種各樣的半自動(dòng)及全自動(dòng)拋光機(jī)。濕度太大會(huì)減弱拋光的磨痕作用，使試樣中硬相呈現(xiàn)浮凸和鋼中非金屬夾雜物及鑄視。 同時(shí)影響終觀察到的組織，即不會(huì)造成鐵中石墨相產(chǎn)生“曳尾”現(xiàn)象;濕度太小時(shí)，因?yàn)槟Σ辽鸁釙?huì)使試樣升溫，潤(rùn)滑作用減小，磨面失去光澤，的是去除粗拋產(chǎn)生的表層損傷，使拋光損傷減到小。